裏から見た面 パワー半導体ウェハーへのレーザー彫刻テスト 2011年11月18日

パワー半導体ウェハーへレーザー彫刻出来ないかテストするご用命を賜りました。

パワー半導体ウェハーへのレーザー彫刻テスト 2011年11月18日
パワー半導体ウェハーへのレーザー彫刻テスト 2011年11月18日

製作会社:ミモト屋 アーカイヴジャパン株式会社

制作日時:2022年11月18日

加工品名:パワー半導体ウェハー

加工素材:シリコン系結晶素材体

仕上げ:ファイバーレーザー レーザー深彫り彫刻

使用機器:ファイバーレーザーSD-30ワット LXSD-FB30

彫刻面 パワー半導体ウェハーへのレーザー彫刻テスト 2011年11月18日
彫刻面 パワー半導体ウェハーへのレーザー彫刻テスト 2011年11月18日
裏から見た面 パワー半導体ウェハーへのレーザー彫刻テスト 2011年11月18日
裏から見た面 パワー半導体ウェハーへのレーザー彫刻テスト 2011年11月18日
パワー半導体ウェハーへのレーザー彫刻テスト
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